当前位置:标准网 国家标准

GB/T 28276-2012 硅基MEMS制造技术 体硅溶片工艺规范

GB/T 28276-2012 硅基MEMS制造技术 体硅溶片工艺规范

Silicon-based MEMS fabrication technology - Specification for the dissolved wafer process

GB/T 28276-2012

国家标准推荐性
收藏 报错

标准GB/T 28276-2012标准状态

  1. 发布于:
  2. 实施于:
  3. 废止

标准详情

  • 标准名称:硅基MEMS制造技术 体硅溶片工艺规范
  • 标准号:GB/T 28276-2012
    中国标准分类号:L55
  • 发布日期:2012-05-11
    国际标准分类号:31.200
  • 实施日期:2012-12-01
    技术归口:全国微机电技术标准化技术委员会
  • 代替标准:
    主管部门:国家标准化管理委员会
  • 标准分类:电子学集成电路、微电子学

内容简介

国家标准《硅基MEMS制造技术 体硅溶片工艺规范》由TC336(全国微机电技术标准化技术委员会)归口,主管部门为国家标准化管理委员会。
本标准规定了采用体硅溶片加工工艺进行MEMS器件加工时应遵循的工艺要求和工艺评价规范。本标准适用于体硅溶片工艺的加工和质量检验。

起草单位

中国电子科技集团第十三研究所、北京大学、中机生产力促进中心、中国科学院上海微系统与信息技术研究所、

起草人

崔波、 罗蓉、 熊斌、 陈海蓉、 刘伟、张大成、

相近标准

GB/T 32815-2016 硅基MEMS制造技术 体硅压阻加工工艺规范
GB/T 32814-2016 硅基MEMS制造技术 基于SOI硅片的MEMS工艺规范
GB/T 28275-2012 硅基MEMS制造技术 氢氧化钾腐蚀工艺规范
GB/T 32816-2016 硅基MEMS制造技术 以深刻蚀与键合为核心的工艺集成规范
GB/T 28274-2012 硅基MEMS制造技术 版图设计基本规则
GB/T 28277-2012 硅基MEMS制造技术 微键合区剪切和拉压强度检测方法
GB/T 42895-2023 微机电系统(MEMS)技术 硅基MEMS微结构弯曲强度试验方法
GB/T 42896-2023 微机电系统(MEMS)技术 硅基MEMS纳尺度结构冲击试验方法
GB/T 42897-2023 微机电系统(MEMS)技术 硅基MEMS纳米厚度膜抗拉强度试验方法
20220133-T-469 埋层硅外延片

* 特别声明:资源收集自网络或用户上传,版权归原作者所有,如侵犯您的权益,请联系我们处理。

  • 标准质量:
  • 下载说明

  • ① 欢迎分享本站未收录或质量优于本站的标准,期待。
    ② 标准出现数据错误、过期或其它问题请点击下方「在线纠错」通知我们,感谢!
    ③ 本站资源均来源于互联网,仅供网友学习交流,若侵犯了您的权益,请联系我们予以删除。