当前位置：标准网 国家标准

GB/T 29844-2013 用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范

GB/T 29844-2013 用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范

Specifications of metrology patterns for the evaluation of advanced photolithgraphy

GB/T 29844-2013

国家标准推荐性
收藏 报错

标准GB/T 29844-2013标准状态

  1. 发布于：
  2. 实施于：
  3. 废止

标准详情

  • 标准名称：用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范
  • 标准号：GB/T 29844-2013
    中国标准分类号：L90
  • 发布日期：2013-11-12
    国际标准分类号：31.030
  • 实施日期：2014-04-15
    技术归口：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
  • 代替标准：
    主管部门：国家标准化管理委员会
  • 标准分类：电子学电子技术专用材料

内容简介

国家标准《用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准化管理委员会。
本标准规定了用于先进集成电路光刻工艺综合评估的标准测试图形单元的形状、一般尺寸,以及推荐的布局和设计规则,这些标准测试图形包括可供光学显微镜和扫描电子显微镜用的各种图形单元。本标准适用集成电路的工艺、常规掩模版、光致抗蚀剂和光刻机的特征和能力作出评价及交替移相掩模版相位测量,适用于g线、i线、KrF、ArF等波长的光刻设备及相应的光刻工艺。

起草单位

上海华虹NEC电子有限公司、

起草人

王雷、 伍强、 朱骏、陈宝钦、

相近标准

GB/T 16878-1997 用于集成电路制造技术的检测图形单元规范
GY/T 316-2018 用于节目制作的先进声音系统
GB/T 42758-2023 用于节目制作的先进声音系统
20141082-T-469 投影光刻机
YB/T 4712-2018 钢渣用于烧结烟气脱硫工艺技术规范
SJ/Z 11351-2006 用于描述、选择和转让的集成电路IP核属性格式标准
20202503-T-339 集成电路 收发器的EMC评估 第1部分：通用条件和定义
YD/T 3031-2016 用于近场电磁辐射数值评估的成年人头部模型
20182279-T-339 集成电路三维封装 芯片叠层工艺过程和评价要求
EJ/T 988-1996 用于评估铀燃料制造厂核临界事故潜在辐射后果的假定

* 特别声明：资源收集自网络或用户上传，版权归原作者所有，如侵犯您的权益，请联系我们处理。

标准网本地下载
  • 标准质量：

    • 下载说明

  • ① 欢迎分享本站未收录或质量优于本站的标准，期待。
    ② 标准出现数据错误、过期或其它问题请点击下方「在线纠错」通知我们，感谢！
    ③ 本站资源均来源于互联网，仅供网友学习交流，若侵犯了您的权益，请联系我们予以删除。
  • 在线纠错
    • 标准过期 下载问题 模糊有误 其它问题

    「相关推荐」