GB/T 14849.4-2008 工业硅化学分析方法第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量_标准下载

GB/T 14849.4-2008 工业硅化学分析方法第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量

Methods for chemical analysis of silicon metal - Part 4:Determination of elements content Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method

GB/T 14849.4-2008

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标准GB/T 14849.4-2008标准状态

发布于：2008-06-09
实施于：2008-12-01
废止

标准详情

标准名称：工业硅化学分析方法第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量
标准号：GB/T 14849.4-2008
中国标准分类号：H17
发布日期：2008-06-09
国际标准分类号：77.120.10
实施日期：2008-12-01
技术归口：全国有色金属标准化技术委员会
代替标准：被GB/T 14849.4-2014代替
主管部门：中国有色金属工业协会
标准分类：冶金有色金属铝和铝合金

内容简介

国家标准《工业硅化学分析方法第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量》由TC243（全国有色金属标准化技术委员会）归口，TC243SC1（全国有色金属标准化技术委员会轻金属分会）执行，主管部门为中国有色金属工业协会。
本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、钛、锰、镍含量的测定方法。本部分适用于工业硅中铁、铝、钙、钛、锰、镍含量的测定。

起草单位

中国铝业股份有限公司郑州研究院、中国有色金属工业标准计量质量研究所等、

起草人

李跃平、石磊、张树朝、

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