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GB/T 18682-2002 物理气相沉积TiN薄膜技术条件

GB/T 18682-2002 物理气相沉积TiN薄膜技术条件

Specifications of physical vapour deposition TiN films

GB/T 18682-2002

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标准GB/T 18682-2002标准状态

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  • 标准名称：物理气相沉积TiN薄膜技术条件
  • 标准号：GB/T 18682-2002
    中国标准分类号：A29
  • 发布日期：2002-03-10
    国际标准分类号：25.220.20
  • 实施日期：2002-08-01
    技术归口：全国金属与非金属覆盖层标准化技术委员会
  • 代替标准：
    主管部门：中国机械工业联合会
  • 标准分类：机械制造表面处理和镀涂表面处理

内容简介

国家标准《物理气相沉积TiN薄膜技术条件》由TC57（全国金属与非金属覆盖层标准化技术委员会）归口，主管部门为中国机械工业联合会。
本标准规定了物理气相沉积TiN薄膜的技术要求。本标准适用于物理气相沉积TiN薄膜，也适用于其他方法制备的TiN薄膜。本标准也适用于其他材料沉积层(TiC，TiCN，TiAIN等)。

起草单位

武汉材料保护研究所、

起草人

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