GB/T 40110-2021 表面化学分析全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染_标准下载

GB/T 40110-2021 表面化学分析全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染

Surface chemical analysis—Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy

GB/T 40110-2021

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标准GB/T 40110-2021标准状态

发布于：2021-05-21
实施于：2021-12-01
废止

标准详情

标准名称：表面化学分析全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染
标准号：GB/T 40110-2021
中国标准分类号：G04
发布日期：2021-05-21
国际标准分类号：71.040.40
实施日期：2021-12-01
技术归口：全国微束分析标准化技术委员会
代替标准：
主管部门：国家标准化管理委员会
标准分类：化工技术分析化学化学分析

内容简介

国家标准《表面化学分析全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染》由TC38（全国微束分析标准化技术委员会）归口，TC38SC2（全国微束分析标准化技术委员会表面化学分析分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
本文件描述了测量经化学机械抛光或外延生长的硅片上表面元素污染的原子表面密度的TXRF方法。本文件适用于以下情形：——原子序数从16(S)到92(U)的元素；——原子表面密度介于1X1010atoms/cm2～1X1014atoms/cm2之间的污染元素；——采用VPD（气相分解）样品制备方法得到的原子表面密度介于5X108atoms/cm2~5X1012atoms/cm2之间的污染元素（见3.4）。

起草单位

中国计量科学研究院、华南理工大学、

起草人

王海、张艾蕊、徐昕荣、范燕、王梅玲、任丹华、

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