GB/T 14849.4-2014 工业硅化学分析方法第4部分：杂质元素含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法_标准下载

GB/T 14849.4-2014 工业硅化学分析方法第4部分：杂质元素含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法

Methods for chemical analysis of silicon metal―Part 4：Determination of impurity contents―Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method

GB/T 14849.4-2014

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标准GB/T 14849.4-2014标准状态

发布于：2014-12-05
实施于：2015-08-01
废止

标准详情

标准名称：工业硅化学分析方法第4部分：杂质元素含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法
标准号：GB/T 14849.4-2014
中国标准分类号：H12
发布日期：2014-12-05
国际标准分类号：77.120.10
实施日期：2015-08-01
技术归口：全国有色金属标准化技术委员会
代替标准：代替GB/T 14849.4-2008
主管部门：中国有色金属工业协会
标准分类：冶金有色金属铝和铝合金

内容简介

国家标准《工业硅化学分析方法第4部分：杂质元素含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法》由TC243（全国有色金属标准化技术委员会）归口，TC243SC1（全国有色金属标准化技术委员会轻金属分会）执行，主管部门为中国有色金属工业协会。
GB／T14849的本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、锰、、镍、铜、铬、钒、镁、、磷、钾、钠、铅、锌、硼含量的测定方法。本部分适用于工业硅中铁、铝、钙、锰、、镍、铜、铬、钒、镁、钻、磷、钾、钠、铅、锌、硼量的测定。

起草单位

昆明冶金研究院、昆明冶研新材料股份有限公司、中国铝业股份有限公司郑州研究院、云南出入境检验检疫局技术中心等、

起草人

刘维理、王劲榕、杨毅、李跃平、赵德平、

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