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GB/T 43748-2024 微束分析 透射电子显微术 集成电路芯片中功能薄膜层厚度的测定方法

GB/T 43748-2024 微束分析 透射电子显微术 集成电路芯片中功能薄膜层厚度的测定方法

Microbeam analysis—Transmission electron microscopy—Method for measuring the thickness of functional thin films in integrated circuit chips

GB/T 43748-2024

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标准GB/T 43748-2024标准状态

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  • 标准名称:微束分析 透射电子显微术 集成电路芯片中功能薄膜层厚度的测定方法
  • 标准号:GB/T 43748-2024
    中国标准分类号:N33
  • 发布日期:2024-03-15
    国际标准分类号:71.040.40
  • 实施日期:2024-10-01
    技术归口:全国微束分析标准化技术委员会
  • 代替标准:
    主管部门:国家标准化管理委员会
  • 标准分类:化工技术分析化学化学分析

内容简介

国家标准《微束分析 透射电子显微术 集成电路芯片中功能薄膜层厚度的测定方法》由TC38(全国微束分析标准化技术委员会)归口,主管部门为国家标准化管理委员会。
本文件规定了用透射电子显微镜/扫描透射电子显微镜(TEM/STEM)测定集成电路芯片中功能薄膜层厚度的方法。本文件适用于测定几个纳米以上厚度的集成电路芯片中功能薄膜层。

起草单位

广东省科学院工业分析检测中心、胜科纳米(苏州)股份有限公司、南方科技大学、

起草人

伍超群、 于洪宇、 周鹏、 邱杨、 程鑫、 乔明胜、陈文龙、黄晋华、汪青、

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