GB/T 34174-2017 表面化学分析工作参考物质中离子注入产生的驻留面剂量定值的推荐程序_标准下载

GB/T 34174-2017 表面化学分析工作参考物质中离子注入产生的驻留面剂量定值的推荐程序

Surface chemical analysis—Proposed procedure for certifying the retained areic dose in a working reference material produced by ion implantation

GB/T 34174-2017

国家标准推荐性

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标准GB/T 34174-2017标准状态

发布于：2017-09-07
实施于：2018-08-01
废止

标准详情

标准名称：表面化学分析工作参考物质中离子注入产生的驻留面剂量定值的推荐程序
标准号：GB/T 34174-2017
中国标准分类号：G04
发布日期：2017-09-07
国际标准分类号：71.040.40
实施日期：2018-08-01
技术归口：全国微束分析标准化技术委员会
代替标准：
主管部门：国家标准化管理委员会
标准分类：化工技术分析化学化学分析

内容简介

国家标准《表面化学分析工作参考物质中离子注入产生的驻留面剂量定值的推荐程序》由TC38（全国微束分析标准化技术委员会）归口，TC38SC2（全国微束分析标准化技术委员会表面化学分析分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
对表面分析用的工作参考物质(WoRM)中离子注入原子序数大于硅的分析物元素，本标准规定了对其驻留面剂量进行定值的程序。WoRM为组成均匀的、标称直径不小于50mm的抛光(或类似磨面)基片(也称作基片)，并已离子注入一种基片上不存在的某种化学元素的同位素(也称作分析物)，其标称面剂量范围通常为1016atoms/cm2至1013atoms/cm2(即半导体技术中最感兴趣的范围)。WoRM晶片中离子注入分析物的面剂量，是通过与二级参考物质（SeRM）硅片中注入相同分析物的驻留面剂量比较而进行定值的。本标准提供了WoRM定值的概念和程序方面的信息。同时也有对参考物质要求、比较测量和实际定值的描述。离子注入、离子注入剂量术、波长色散X射线荧光光谱和无法得到SeRM时的无证替代物的补充材料见附录A到附录D。定值过程中产生的不确定度来源和数值见附录E。

起草单位

中国科学院化学研究所、国家纳米科学中心、中国石化石油化工科学研究院、

起草人

邱丽美、刘芬、赵志娟、章小余、徐鹏、刁玉霞、

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