GB/T 29507-2013 硅片平整度、厚度及总厚度变化测试 自动非接触扫描法
GB/T 29507-2013
国家标准推荐性标准GB/T 29507-2013标准状态
- 发布于:2013-05-09
- 实施于:2014-02-01
- 废止
内容简介
国家标准《硅片平整度、厚度及总厚度变化测试 自动非接触扫描法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,主管部门为国家标准化管理委员会。
本标准规定了直径不小于50 mm,厚度不小于100 μm的切割、研磨、腐蚀、抛光、外延或其他表面状态的硅片平整度、厚度及总厚度变化的测试、本标准为非破坏性、无接触的自动扫描测试方法,适用于洁净、干燥硅片的平整度和厚度测试,且不受硅片的厚度变化、表面状态和硅片形状的影响、
起草单位
上海合晶硅材料有限公司、有研半导体材料股份有限公司、
起草人
徐新华、 王珍、 孙燕、曹孜、
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