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GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶

GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶

Magnetron sputtering ruthenium target

GB/T 34649-2017

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标准GB/T 34649-2017标准状态

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  • 标准名称：磁控溅射用钌靶
  • 标准号：GB/T 34649-2017
    中国标准分类号：H68
  • 发布日期：2017-09-29
    国际标准分类号：77.150.99
  • 实施日期：2018-04-01
    技术归口：全国有色金属标准化技术委员会
  • 代替标准：
    主管部门：中国有色金属工业协会
  • 标准分类：冶金有色金属产品其他有色金属产品

内容简介

国家标准《磁控溅射用钌靶》由TC243（全国有色金属标准化技术委员会）归口，TC243SC5（全国有色金属标准化技术委员会贵金属分会）执行，主管部门为中国有色金属工业协会。
本标准规定了磁控溅射用钌靶的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单（或合同）内容。本标准适用于微电子领域镀膜用磁控溅射钉靶（以下简称钌靶）。

起草单位

有研亿金新材料有限公司、有色金属技术经济研究院、

起草人

罗俊锋、 丁照崇、 万小勇、 刘书芹、 贺昕、 滕海涛、 李勇军、向磊、熊晓东、王庄、高岩、

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