GB/T 16879-1997 掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则_标准下载

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GB/T 16879-1997 掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则

Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment

GB/T 16879-1997

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标准GB/T 16879-1997标准状态

发布于：1997-06-20
实施于：1998-03-01
废止

标准详情

标准名称：掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则
标准号：GB/T 16879-1997
中国标准分类号：L97
发布日期：1997-06-20
国际标准分类号：31.020
实施日期：1998-03-01
技术归口：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
代替标准：
主管部门：国家标准化管理委员会
标准分类：电子学电子元器件综合

内容简介

国家标准《掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准化管理委员会。
本准则规定了在表示掩模曝光设备的精密度和准确度时应遵循的一般要求。掩模曝光设备的图形曝光精密度和准确度是通过测量制成的掩模来评估的，掩模制造过程中的工艺条件对它有很大影响。所以，曝光条件应经厂家和用户双方同意。

起草单位

中国科学院微电子中心、

起草人

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