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YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶

YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶

YS/T 719-2009

行业标准-YS 有色金属推荐性
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标准YS/T 719-2009标准状态

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  • 标准名称:平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
  • 标准号:YS/T 719-2009
    中国标准分类号:H63
  • 发布日期:2009-12-04
    国际标准分类号:77.150
  • 实施日期:2010-06-01
    技术归口:全国有色金属标准化技术委员会
  • 代替标准:
    主管部门:工业和信息化部
  • 标准分类:冶金有色金属产品其他有色金属产品YS 有色金属

内容简介

行业标准《平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶》由全国有色金属标准化技术委员会归口上报,主管部门为工业和信息化部。本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、订货单(合同)内容。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。

起草单位

利达光电股份有限公司

起草人

李智超、杨太礼

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