YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
YS/T 719-2009
行业标准-YS 有色金属推荐性收藏报错
标准YS/T 719-2009标准状态
- 发布于:2009-12-04
- 实施于:2010-06-01
- 废止
内容简介
行业标准《平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶》由全国有色金属标准化技术委员会归口上报,主管部门为工业和信息化部。本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、订货单(合同)内容。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。
起草单位
利达光电股份有限公司
起草人
李智超、杨太礼
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