YS/T 819-2012 电子薄膜用高纯铜溅射靶材
YS/T 819-2012
行业标准-YS 有色金属推荐性收藏报错
标准YS/T 819-2012标准状态
- 发布于:2012-11-07
- 实施于:2013-03-01
- 废止
内容简介
行业标准《电子薄膜用高纯铜溅射靶材》由全国有色金属标准化中心归口上报,主管部门为工业和信息化部。本标准规定了电子薄膜用高纯铜溅射靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存、质量证明书及合同(或订货单)内容。本标准适用于电子薄膜制造用的各类高纯铜溅射靶材(以下简称高纯铜靶)。
起草单位
宁波江丰电子材料有限公司、有研亿金新材料股份有限公司
起草人
王学泽、宋佳
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