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JC/T 2133-2012 半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法

JC/T 2133-2012 半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法

JC/T 2133-2012

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  • 标准名称:半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
  • 标准号:JC/T 2133-2012
    中国标准分类号:Q27
  • 发布日期:2012-12-28
    国际标准分类号:71.040
  • 实施日期:2013-06-01
    技术归口:全国工业陶瓷标准化技术委员会
  • 代替标准:
    主管部门:工业和信息化部
  • 标准分类:化工技术JC 建材

内容简介

行业标准《半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法》由全国工业陶瓷标准化技术委员会归口上报,主管部门为工业和信息化部。本标准规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)法测定半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的方法。本标准适用于半导体化学机械抛光(CMP)中抛光液用的各种硅溶胶。杂质元素包括:铝、钡、钙、铬、铜、铁、钾、镁、锰、钠、镍、钛、锌、锆等14种元素。

起草单位

中国科学院上海硅酸盐研究所

起草人

陈奕睿、屈海云

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