当前位置:标准网 行业标准

YS/T 1124-2016 磁性溅射靶材透磁率测试方法

YS/T 1124-2016 磁性溅射靶材透磁率测试方法

YS/T 1124-2016

行业标准-YS 有色金属推荐性
收藏报错

标准YS/T 1124-2016标准状态

  1. 发布于:
  2. 实施于:
  3. 废止

标准详情

  • 标准名称:磁性溅射靶材透磁率测试方法
  • 标准号:YS/T 1124-2016
    中国标准分类号:H21
  • 发布日期:2016-07-11
    国际标准分类号:77.120
  • 实施日期:2017-01-01
    技术归口:全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)
  • 代替标准:
    主管部门:工业和信息化部
  • 标准分类:冶金有色金属其他有色金属及其合金YS 有色金属

内容简介

行业标准《磁性溅射靶材透磁率测试方法》,主管部门为工业和信息化部。本标准规定了磁控溅射用磁性靶材透磁率的术语和定义、检测设备、检验过程及结果计算等内容。本标准适用于溅射薄膜用各类磁性靶材透磁率的检验。

起草单位

有研亿金新材料有限公司、有色金属技术经济研究院

起草人

罗俊锋、万小勇、向磊、丁照崇、李勇军、何金江、徐国进、夏乾坤、刘晓、王越

相近标准

YS/T 1024-2015 溅射用钽靶材
YS/T 1555-2022 铂钴铬硼合金溅射靶材
YS/T 819-2012 电子薄膜用高纯铜溅射靶材
YS/T 893-2013 电子薄膜用高纯钛溅射靶材
YS/T 1357-2020 磁记录用铬钽钛合金溅射靶材
YS/T 1358-2020 磁记录用铁钴钽合金溅射靶材
YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶
YS/T 1025-2015 电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材

* 特别声明:资源收集自网络或用户上传,版权归原作者所有,如侵犯您的权益,请联系我们处理。

  • 标准质量:
  • 下载说明

  • ① 欢迎分享本站未收录或质量优于本站的标准,期待。
    ② 标准出现数据错误、过期或其它问题请点击下方「在线纠错」通知我们,感谢!
    ③ 本站资源均来源于互联网,仅供网友学习交流,若侵犯了您的权益,请联系我们予以删除。