T/CASAS 54-2025 氮化铝晶片吸收系数测试方法
T/CASAS 54-2025
团体标准推荐性标准T/CASAS 54-2025标准状态
- 发布于:2025-05-20
- 实施于:2025-05-20
- 废止
内容简介
氮化铝(AlN)是直接带隙半导体,具有超宽禁带宽度(6.2eV)、高热导率[3.2W/(cmK)]、高表面声波速率(VL=10.13×105cm/s,VT=6.3×105cm/s)、高击穿场强(15.4MV/cm)和稳定的物理化学性能,是紫外/深紫外发光材料的理想衬底,基于此衬底制作的AlxGa1-xN材料可以实现200nm~365nm波段内的连续发光;此外,AlN材料可以制作耐高压、耐高温、抗辐射和高频的电子器件
所以,AlN晶体在深紫外发光器件、高功率微波器件、抗辐照器件等领域具有巨大的市场潜力
AlN单晶理论上对波长大于200nm的光几乎完全透过,晶体成透明色
但是,目前生长出的AlN单晶多呈棕色或暗棕色,对深紫外波段(200nm~300nm)的光有较强的吸收,从而影响基于AlN单晶衬底的深紫外发光器件性能
这些吸收主要由AlN单晶缺陷所致,包括碳、氧、硅杂质,以及各种点缺陷
同时,这些缺陷会成为深能级施主或受主使得由AlN衬底制备的光电子器件性能下降
透射率/吸收系数是AlN晶片衬底非常重要的特征参数,一定程度上代表了作为发光器件衬底材料的质量
因此,AlN晶片透射率/吸收系数,特别是特定波长范围的透射率/吸收系数,对AlN衬底晶片的应用具有重要意义
本文件描述了氮化铝(AlN)抛光片光吸收系数的测试方法,包括原理、仪器设备、测试条件、样品、测试步骤、结果计算和测试报告。本文件适用于氮化铝抛光片的光学质量控制和评估。氮化铝外延片可参照使用。
起草单位
中国科学院半导体研究所、奥趋光电技术(杭州)有限公司、北京大学、中国电子科技集团公司第四十六研究所、山东大学、山西中科潞安紫外光电科技有限公司、山西中科潞安半导体技术研究院有限公司、北京大学东莞光电研究院、山东力冠微电子装备有限公司、北京第三代半导体产业技术创新战略联盟。
起草人
刘志彬、吴亮、于彤军、程红娟、张雷、徐广源、张童、王新强、宋德鹏、高伟。
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