GB/T 40109-2021 表面化学分析二次离子质谱硅中硼深度剖析方法_标准下载

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GB/T 40109-2021 表面化学分析二次离子质谱硅中硼深度剖析方法

Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Method for depth profiling of boron in silicon

GB/T 40109-2021

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标准GB/T 40109-2021标准状态

发布于：2021-05-21
实施于：2021-12-01
废止

标准详情

标准名称：表面化学分析二次离子质谱硅中硼深度剖析方法
标准号：GB/T 40109-2021
中国标准分类号：G04
发布日期：2021-05-21
国际标准分类号：71.040.40
实施日期：2021-12-01
技术归口：全国微束分析标准化技术委员会
代替标准：
主管部门：国家标准化管理委员会
标准分类：化工技术分析化学化学分析

内容简介

国家标准《表面化学分析二次离子质谱硅中硼深度剖析方法》由TC38（全国微束分析标准化技术委员会）归口，TC38SC2（全国微束分析标准化技术委员会表面化学分析分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
本文件描述了用扇形磁场或四极杆式二次离子质谱仪对硅中硼进行深度剖析的方法，以及用触针式表面轮廓仪或光学干涉仪深度定标的方法。本文件适用于硼原子浓度范围1 × 1016atoms/cm3~1×1020atoms/cm3的单晶硅、多晶硅或非晶硅样品，溅射弧坑深度在50nm及以上。

起草单位

中国电子科技集团公司第四十六研究所、

起草人

马农农、何友琴、王东雪、李展平、陈潇、张鑫、

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